BS-60050EBS

特色:

  1. 反射電子的基板入射少(吸收降低)
  2. 從外部可以加速電壓變更
  3. 採用長壽命燈絲
  4. 難以汙染的形狀
  5. 優異的維護保養性能


JEBG- 102UHO

特點:

  1. 電子束偏轉角:180∘(電磁鐵)
  2. 實現最高的溶融痕
  3. 光學膜用暢銷產品

產品說明:

  1. 模組化的設計,隨插即用。容易維護,體積縮小30%。
  2. 低溫製程。

特色:

  1. 增加鍍膜接著
  2. 控制度模組成結構
  3. 降低鍍膜吸收及散射
  4. 增加薄膜硬度及耐磨性
  5. 增加鍍膜密度
  6. 增加折射率
  7. 鍍膜介面平整化
  8. 控制鍍膜應力

應用:

離子輔助鍍膜、清潔、蝕刻

其他系列:

中和式離子源 EH1025HC

特色:

  1. Mark ll離子源為光學鍍膜產業最被廣泛使用的離子源,除了延續lon Tech及Commonweath Scientifics的傳統優點之外,更加入許多Veeco的獨特的設計
  2. Mark ll相較其他同型離子源,可提供更高的離子電流,以3000W的放電功率為例,使用O2氣體的最大離子電流可達3.4Amp,相較其他同型離子源,增加了30-40%,可支援高鍍率製程需求。

應用:

Mark ll 的應用在光學鍍膜製程

  1. 離子輔助鍍膜
  2. 鍍膜前表面清潔
  3. Mark ll的功能在改善及提升鍍膜的效率
  4. 薄膜附著力
  5. 薄膜密度
  6. 薄膜應力
  7. 薄膜結構
  8. 薄膜光學特性(折射、吸收)

其他系列

  1. 中和式(中卻陰極)水冷式,MARK III離子源
  2. 16cm RF 射頻離子源