BS-60050EBS

特色：

1. 反射電子的基板入射少(吸收降低)
2. 從外部可以加速電壓變更
3. 採用長壽命燈絲
4. 難以汙染的形狀
5. 優異的維護保養性能

JEBG- 102UHO

特點：

1. 電子束偏轉角:180∘(電磁鐵)
2. 實現最高的溶融痕
3. 光學膜用暢銷產品

產品說明：

1. 模組化的設計，隨插即用。容易維護，體積縮小30%。
2. 低溫製程。

特色：

1. 增加鍍膜接著
2. 控制度模組成結構
3. 降低鍍膜吸收及散射
4. 增加薄膜硬度及耐磨性
5. 增加鍍膜密度
6. 增加折射率
7. 鍍膜介面平整化
8. 控制鍍膜應力

應用：

離子輔助鍍膜、清潔、蝕刻

其他系列：

中和式離子源 EH1025HC

特色：

1. Mark ll離子源為光學鍍膜產業最被廣泛使用的離子源，除了延續lon Tech及Commonweath Scientifics的傳統優點之外，更加入許多Veeco的獨特的設計
2. Mark ll相較其他同型離子源，可提供更高的離子電流，以3000W的放電功率為例，使用O2氣體的最大離子電流可達3.4Amp，相較其他同型離子源，增加了30-40%，可支援高鍍率製程需求。

應用：

Mark ll 的應用在光學鍍膜製程

1. 離子輔助鍍膜
2. 鍍膜前表面清潔
3. Mark ll的功能在改善及提升鍍膜的效率
4. 薄膜附著力
5. 薄膜密度
6. 薄膜應力
7. 薄膜結構
8. 薄膜光學特性(折射、吸收)

其他系列

1. 中和式(中卻陰極)水冷式，MARK III離子源
2. 16cm RF 射頻離子源