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LP-EBA (900~1300)

特色:

  1. 中英文操作介面方便簡單。
  2. 電腦自動控制下,具有超高再現性。
  3. 採用高性能光學厚膜監控與電腦結合,可達到超高精度的光學厚膜。
  4. 可加裝Ion Source 或Plasma Gun作高階光學膜蒸著製程。
  5. 加裝自動反面機構,可縮短蒸著作業時間,達到高效產能並減低生產成本。
  6. 自動化蒸著系統可強化生產管理及降低人事訓練時間。

用途:

  1. 單眼/數位相機 鏡片
  2. 監視器/投影機 鏡頭
  3. 彩色濾光鏡/ 鏡子
  4. 紅外線/紫外線 濾鏡
  5. AR 鍍膜
  6. 手機鏡頭
  7. DVD 讀取頭 & 監視器鏡片

系統/機種

LP-900 EBA

LP-1100 EBA

LP-1300 EBA

尺寸

外徑尺寸

900 mm

1100 mm

1300 mm

治具尺寸

∮820 mm

∮950 mm

∮1200 mm

主性能

到達真空度

10-7 Torr/ 10-5 Pa

操作真空度

從1個大氣壓 到 2x10-5 Torr(2.7X10-3 Pa) 約30分鐘 (空爐時)

基板溫度

350℃ (最大)

排氣系統

迴轉幫浦

3,000公升/ 每分鐘

3,000公升/ 每分鐘

3,000公升/ 每分鐘

加強幫浦

600 M3/ 每小時

600 M3/ 每小時

1,500 M3/ 每小時

擴散幫浦

20,000公升/ 秒x 1

15,000公升/ 秒x 2

45,000公升/ 秒x 1

超低溫冷凍機

-110 ~ -140 ℃

加溫系統

微加熱器

12KW

12KW

24KW

膜厚計

光學式膜厚計

LP廣波域膜厚計380mm~1,050mm

石英式膜厚計

單片式感測頭/ 六片式感測頭

真空計

-

Pirani + Cold Cathode (1ATM ~ 10-9 Torr / 1ATM ~ 10-7 Pa)

蒸發源

電子槍

Plasmatech 6KW/10KW

電阻加熱

3KW

6KW

6KW

迴轉方式

-

行星式或公轉式

離子源

-

另外選配

冷卻系統

-

水壓: 4Kg/ cm2,壓差:2Kg/ cm2

冷卻水流量

公升/分鐘

80

100

150

冷卻水溫度

-

建議 入水18℃,出水25℃,標準溫度20±1℃

冷卻水塔

-

水壓: 4Kg/ cm2; 壓差:2Kg/ cm2

空壓機

-

3HP (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2)

接地電阻

-

5歐姆以下

所需電力

-

35KW

40KW

60KW

環境需求

十萬級無塵室環境; Epoxy平面地板;空調;溫度25±3℃; 濕度50±10%