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LP-EBA (1500~1800)

自動化光學真空蒸著機

特色:

  1. 電腦自動控制下,具有超高再現性。
  2. 採用36吋擴散幫浦的高性能排氣系統,減短排氣時間。
  3. 構造簡單,易於清理、維護使用的電阻加熱蒸著源。
  4. 電子槍蒸著源因加熱面積小,可精確的控制蒸著速度及薄膜的厚度及蒸著於高熔點的金屬或其他的介電質材料。
  5. 可裝置新型離子源或電漿源作高階光學膜蒸著製程。

用途:

  1. 單眼/數位相機 鏡片、鏡頭
  2. 監視器/投影機 鏡頭、彩色濾光鏡
  3. 紅外線/紫外線 濾鏡、DVD 讀取頭
  4. 監視器鏡片、光纖 AR 鍍膜 

系統/機種

LP-1500 EBA

LP-1800 EBA

尺寸

外徑尺寸

1,500 mm

1800 mm

治具尺寸

∮1,400 mm

∮1,600 mm

主性能

到達真空度

10-7Torr  / 10-5 Pa

操作真空度

從1大氣壓 到 2x10-5 Torr 約30分鐘  (空爐時)

基板溫度

350℃ (最大)

排氣系統

迴轉幫浦

5,000 公升/  每分鐘

6,000 公升/  每分鐘

加強幫浦

1,500M3/每小時

2,600 M3/  每小時

擴散幫浦

45,000公升/  每秒x1

45,000公升/  每秒x2

超低溫冷凍機

(採環保冷媒)

-110 ~ -140℃

加溫系統

微加熱器

36KW

42KW

膜厚計

光學式膜厚計

LP廣波域膜厚計

石英式膜厚計

單片式感測頭/ 六片式感測頭

真空計

-

Pirani + Cold  Cathode (1ATM ~ 10-9 Torr / 1ATM ~ 10-7 Pa)

蒸發源

電子槍

JEOL 或  Plasmatech 6KW/10KW/15KW

電阻加熱

6KW

迴轉方式

-

行星式或公轉式

離子源

-

另外選配

冷卻水流量

公升/分鐘

150

180

冷卻水塔

-

水壓: 4Kg/  cm2; 壓差:2Kg/ cm2

空壓機

-

3~5HP  (空壓: 6 ~ 8 Kg/ cm2)

空壓: 8 Kg/ cm2以上

接地電阻

-

5歐姆以下

電力控制系統

-

PLC+ PC base  (Windows System)

所需電力

-

80KW

110KW

環境需求

十萬級無塵室環境; Epoxy平面地板;空調;溫度25±3℃;  濕度50±10%